卷对卷磁控溅射真空设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202423059085.9

申请日：

2024-12-12

公开(公告)号：

CN223496592U

公开(公告)日：

2025-10-31

发明(设计)人：

孟凡杰房臣德

申请人：

怡通科技有限公司

申请人地址：

261041 山东省潍坊市奎文区高新区新城街道玉清社区东方路726号

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/56

代理机构：

潍坊中润泰专利代理事务所(普通合伙) 37266

代理人：

田友亮

法律状态：

授权

国省代码：

山东省潍坊市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-31	授权	授权

共 50 条

[1]

一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置 [P].

向勇 ;

傅绍英 ;

胡杨 ;

杨小军 .

中国专利 :CN205688003U ,2016-11-16

[2]

一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置 [P].

向勇 ;

傅绍英 ;

胡杨 ;

杨小军 .

中国专利 :CN105671508B ,2016-06-15

[3]

卷对卷磁控溅射阴极与柱状多弧源相结合的真空镀膜设备 [P].

陈晓红 ;

孙卓 ;

朴贤卿 ;

张哲娟 .

中国专利 :CN204644456U ,2015-09-16

[4]

卷对卷溅射系统 [P].

裴钟旿 .

中国专利 :CN205741204U ,2016-11-30

[5]

一种弧形靶磁控溅射卷对卷双面镀膜设备 [P].

杜双明 .

中国专利 :CN220564706U ,2024-03-08

[6]

磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备 [P].

黎佐兴 ;

杨洪生 ;

张晓军 ;

夏慧 .

中国专利 :CN220413508U ,2024-01-30

[7]

用于卷对卷磁控溅射设备和化学气相沉积设备的连接装置 [P].

汪小知 ;

张亮 ;

沈龙 ;

胡海洋 .

中国专利 :CN210176940U ,2020-03-24

[8]

一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备 [P].

赵明 ;

任宇航 ;

罗明新 .

中国专利 :CN206279263U ,2017-06-27

[9]

卷对卷磁控溅射阴极与柱状多弧源相结合的真空镀膜系统 [P].

陈晓红 ;

孙卓 ;

朴贤卿 ;

张哲娟 .

中国专利 :CN104775102B ,2015-07-15

[10]

卷对卷设备 [P].

孙万华 ;

周金东 ;

揭海欢 .

中国专利 :CN212402884U ,2021-01-26

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