卷对卷磁控溅射阴极与柱状多弧源相结合的真空镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520286251.0

申请日：

2015-05-04

公开(公告)号：

CN204644456U

公开(公告)日：

2015-09-16

发明(设计)人：

陈晓红孙卓朴贤卿张哲娟

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区科苑路1278号3楼

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1432

代理机构：

北京连城创新知识产权代理有限公司 11254

代理人：

刘伍堂

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-09-16	授权	授权
2017-07-14	避免重复授权放弃专利权	避免重复授予专利权号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101755173073 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2015202862510 申请日:20150504 授权公告日:20150916 放弃生效日:20170714

共 49 条

[1]

卷对卷磁控溅射阴极与柱状多弧源相结合的真空镀膜系统 [P].

陈晓红 ;

孙卓 ;

朴贤卿 ;

张哲娟 .

中国专利 :CN104775102B ,2015-07-15

[2]

一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置 [P].

向勇 ;

傅绍英 ;

胡杨 ;

杨小军 .

中国专利 :CN205688003U ,2016-11-16

[3]

一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置 [P].

向勇 ;

傅绍英 ;

胡杨 ;

杨小军 .

中国专利 :CN105671508B ,2016-06-15

[4]

磁控溅射真空镀膜设备中的圆柱管形磁控溅射阴极头 [P].

刘晓华 ;

李永才 ;

陈鹏 .

中国专利 :CN203782227U ,2014-08-20

[5]

卷对卷磁控溅射真空设备 [P].

孟凡杰 ;

房臣德 .

中国专利 :CN223496592U ,2025-10-31

[6]

磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备 [P].

程广河 .

中国专利 :CN2228916Y ,1996-06-12

[7]

PVD真空镀膜阴极磁控溅射多弧靶屏蔽罩 [P].

乔利杰 ;

宋述兵 ;

王瑞俊 ;

王博 .

中国专利 :CN213388872U ,2021-06-08

[8]

磁控溅射真空镀膜设备旋转阴极端头 [P].

刘杰 ;

来华杭 ;

施成亮 ;

周海龙 ;

俞峰 .

中国专利 :CN211814636U ,2020-10-30

[9]

一种卷对卷真空镀膜设备 [P].

张俊峰 ;

赵子东 ;

许春立 ;

张大剑 .

中国专利 :CN209260195U ,2019-08-16

[10]

双面卷对卷真空镀膜设备 [P].

唐世杰 ;

王启任 .

中国专利 :CN202187062U ,2012-04-11

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