成膜装置及び成膜装置の処理方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220019519

申请日：

2022-02-10

公开(公告)号：

JP7749484B2

公开(公告)日：

2025-10-06

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/205

IPC分类号：

C23C16/44

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法律状态信息

共 50 条

[1]

成膜装置、基板処理装置及び成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP5939147B2 ,2016-06-22

[2]

成膜装置、基板処理装置及び成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP6011417B2 ,2016-10-19

[3]

成膜処理用部品及び成膜装置[ja] [P].

日本专利 :JP7424854B2 ,2024-01-30

[4]

成膜装置及び炭素膜の成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025135297A ,2025-09-18

[5]

成膜装置、処理条件決定方法及び成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP7737830B2 ,2025-09-11

[6]

成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP6932873B1 ,2021-09-08

[7]

成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP7686414B2 ,2025-06-02

[8]

成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法[ja] [P].

YAKUSHIGAMI HIROSHI ;

SAKAMOTO REIJI ;

SHIBAMOTO MASAHIRO .

日本专利 :JP2025122073A ,2025-08-20

[9]

成膜装置、成膜装置の駆動方法及び成膜方法[ja] [P].

ISHII HIROSHI .

日本专利 :JP2024037209A ,2024-03-19

[10]

成膜装置、成膜装置の駆動方法、及び成膜方法[ja] [P].

ISHII HIROSHI ;

ONO SOTA .

日本专利 :JP2024035289A ,2024-03-14

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