化学气相沉积（CVD）反应器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480015410.5

申请日：

2024-01-12

公开(公告)号：

CN121002217A

公开(公告)日：

2025-11-21

发明(设计)人：

J·温特

申请人：

斯科纳电池技术私人有限公司

申请人地址：

澳大利亚新南威尔士州

IPC主分类号：

C23C16/442

IPC分类号：

C23C16/26 C23C16/44 C23C16/453 C23C16/455

代理机构：

北京世峰知识产权代理有限公司 11713

代理人：

王建秀;卑莹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-21	公开	公开

共 50 条

[1]

高效外延化学气相沉积（CVD）反应器 [P].

乔治·卡米安 .

中国专利 :CN102427971B ,2012-04-25

[2]

化学气相沉积反应器 [P].

G.K.斯特劳赫 ;

D.布里恩 ;

M.道尔斯伯格 .

中国专利 :CN102612571A ,2012-07-25

[3]

化学气相沉积反应器 [P].

李森田 ;

优瑞·吉欧吉维奇·史瑞特 ;

优瑞·图马索维奇·瑞朋 ;

罗斯南·伊凡诺维奇·葛布诺夫 .

中国专利 :CN1854336A ,2006-11-01

[4]

化学气相沉积反应器 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN101036215A ,2007-09-12

[5]

化学气相沉积反应器 [P].

迈克尔·J·贝卡尼 ;

弗兰克·J·卡姆帕纳勒 .

中国专利 :CN101802254B ,2010-08-11

[6]

模块化化学气相沉积（CVD）反应器 [P].

B·H·伯罗斯 ;

C·R·梅茨纳 ;

D·L·笛玛斯 ;

R·N·安德森 ;

J·M·查新 ;

D·K·卡尔森 ;

D·M·石川 ;

J·坎贝尔 ;

R·O·柯林斯 ;

K·M·马吉尔 ;

I·阿夫扎尔 .

中国专利 :CN101443475A ,2009-05-27

[7]

反应器、化学气相沉积反应器以及有机金属化学气相沉积反应器 [P].

陈卫国 ;

陈京玉 .

中国专利 :CN102154624A ,2011-08-17

[8]

喷嘴设备和化学气相沉积反应器 [P].

M·雷克 .

中国专利 :CN102618850A ,2012-08-01

[9]

一种化学气相沉积反应器 [P].

于伟华 ;

田新 ;

张春伟 ;

江扣龙 ;

王彬 .

中国专利 :CN106191808A ,2016-12-07

[10]

一种化学气相沉积反应器 [P].

胡晓炜 ;

蒋宗法 ;

胡晓阳 .

中国专利 :CN210438836U ,2020-05-01

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