等离子体处理装置及等离子体处理方法

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专利类型
发明
申请号
CN202011450996.8
申请日
2020-12-09
公开(公告)号
CN113078040B
公开(公告)日
2025-11-11
发明(设计)人
舆水地盐 玉虫元 井上雅博
申请人
东京毅力科创株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J37/32
IPC分类号
代理机构
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
任玉敏
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
久保田绅治 ;
永关一也 ;
桧森慎司 ;
永海幸一 .
日本专利 :CN121148980A ,2025-12-16
[2]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 ;
玉虫元 ;
井上雅博 .
中国专利 :CN113078040A ,2021-07-06
[3]
等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
久保田绅治 ;
永关一也 ;
桧森慎司 ;
永海幸一 .
中国专利 :CN112951698A ,2021-06-11
[4]
等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
久保田绅治 ;
永关一也 ;
桧森慎司 ;
永海幸一 .
日本专利 :CN112951698B ,2025-10-17
[5]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 ;
上坂友佑人 .
日本专利 :CN120188576A ,2025-06-20
[6]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 .
中国专利 :CN113327834A ,2021-08-31
[7]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 .
中国专利 :CN114068278A ,2022-02-18
[8]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 .
日本专利 :CN113327834B ,2025-11-25
[9]
等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
进藤俊彦 ;
冈本晋 ;
樋口公博 .
中国专利 :CN100414672C ,2005-10-05
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
岩田学 ;
中山博之 ;
增泽健二 ;
本田昌伸 .
中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26