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等离子体处理装置及等离子体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011450996.8
申请日
:
2020-12-09
公开(公告)号
:
CN113078040B
公开(公告)日
:
2025-11-11
发明(设计)人
:
舆水地盐
玉虫元
井上雅博
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J37/32
IPC分类号
:
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
任玉敏
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-11
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
久保田绅治
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
久保田绅治
;
永关一也
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永关一也
;
桧森慎司
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
桧森慎司
;
永海幸一
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0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永海幸一
.
日本专利
:CN121148980A
,2025-12-16
[2]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
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0
舆水地盐
;
玉虫元
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0
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玉虫元
;
井上雅博
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井上雅博
.
中国专利
:CN113078040A
,2021-07-06
[3]
等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
久保田绅治
论文数:
0
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0
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0
久保田绅治
;
永关一也
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永关一也
;
桧森慎司
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桧森慎司
;
永海幸一
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0
永海幸一
.
中国专利
:CN112951698A
,2021-06-11
[4]
等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
久保田绅治
论文数:
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
久保田绅治
;
永关一也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永关一也
;
桧森慎司
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
桧森慎司
;
永海幸一
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永海幸一
.
日本专利
:CN112951698B
,2025-10-17
[5]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
舆水地盐
;
上坂友佑人
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
上坂友佑人
.
日本专利
:CN120188576A
,2025-06-20
[6]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
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0
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0
舆水地盐
.
中国专利
:CN113327834A
,2021-08-31
[7]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
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0
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0
舆水地盐
.
中国专利
:CN114068278A
,2022-02-18
[8]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
舆水地盐
.
日本专利
:CN113327834B
,2025-11-25
[9]
等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
进藤俊彦
论文数:
0
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进藤俊彦
;
冈本晋
论文数:
0
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冈本晋
;
樋口公博
论文数:
0
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0
樋口公博
.
中国专利
:CN100414672C
,2005-10-05
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
岩田学
论文数:
0
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岩田学
;
中山博之
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0
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中山博之
;
增泽健二
论文数:
0
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增泽健二
;
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
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0
本田昌伸
.
中国专利
:CN101515545B
,2009-08-26
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