挤出成型装置、膜的制造系统、及膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202180003692.3

申请日：

2021-02-22

公开(公告)号：

CN114144249B

公开(公告)日：

2025-10-24

发明(设计)人：

大前通宏山下裕司

申请人：

日东电工株式会社

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

B29C48/19

IPC分类号：

B29C48/49 B29C48/305 B29C48/495 B29L7/00

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

杨薇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-24	授权	授权

共 50 条

[1]

挤出成型装置、膜的制造系统、及膜的制造方法 [P].

大前通宏 ;

山下裕司 .

中国专利 :CN114144249A ,2022-03-04

[2]

膜的制造系统和膜的制造方法 [P].

植野俊明 ;

太田智之 ;

品川雅 .

中国专利 :CN114535012A ,2022-05-27

[3]

膜的制造方法、膜的制造装置和膜的制造系统 [P].

关山宏汰 ;

斋藤浩一 ;

南条崇 .

日本专利 :CN119065037A ,2024-12-03

[4]

膜的制造系统及膜的制造方法 [P].

森本有 ;

高桥宪显 ;

大本笃志 ;

桥本尚树 .

日本专利 :CN119317494A ,2025-01-14

[5]

膜的制造系统 [P].

冈本启一 ;

大前通宏 ;

田村海 .

中国专利 :CN114571694A ,2022-06-03

[6]

光学膜的制造方法及光学膜的制造装置 [P].

安藤卓也 ;

网谷圭二 .

中国专利 :CN113840713A ,2021-12-24

[7]

膜的制造方法及膜 [P].

森井里志 ;

中江叶月 ;

南条崇 .

日本专利 :CN117597201A ,2024-02-23

[8]

偏振膜的制造方法、制造装置及偏振膜 [P].

住田幸司 ;

赵天熙 ;

金孝东 .

中国专利 :CN107765356B ,2018-03-06

[9]

固化膜制造装置及固化膜的制造方法 [P].

桥本尚树 ;

大本笃志 ;

高桥宪显 .

日本专利 :CN118513213A ,2024-08-20

[10]

光学膜的制造方法及制造装置 [P].

正路壮俊 ;

田中博文 ;

南条崇 .

中国专利 :CN106881739A ,2017-06-23

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