膜的制造系统及膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380046431.9

申请日：

2023-05-30

公开(公告)号：

CN119317494A

公开(公告)日：

2025-01-14

发明(设计)人：

森本有高桥宪显大本笃志桥本尚树

申请人：

日东电工株式会社

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

B05C9/14

IPC分类号：

B05D3/02 F26B3/04 F26B13/10

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王利波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-07	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B05C 9/14申请日:20230530
2025-01-14	公开	公开

共 50 条

[1]

膜的制造方法、膜的制造装置和膜的制造系统 [P].

关山宏汰 ;

斋藤浩一 ;

南条崇 .

日本专利 :CN119065037A ,2024-12-03

[2]

膜的制造系统和膜的制造方法 [P].

植野俊明 ;

太田智之 ;

品川雅 .

中国专利 :CN114535012A ,2022-05-27

[3]

挤出成型装置、膜的制造系统、及膜的制造方法 [P].

大前通宏 ;

山下裕司 .

中国专利 :CN114144249A ,2022-03-04

[4]

挤出成型装置、膜的制造系统、及膜的制造方法 [P].

大前通宏 ;

山下裕司 .

日本专利 :CN114144249B ,2025-10-24

[5]

缺陷记录系统、膜制造系统以及膜的制造方法 [P].

加集功士 ;

田冈尚人 ;

越野哲史 .

中国专利 :CN109425616A ,2019-03-05

[6]

偏振膜的制造方法及偏振膜的制造装置 [P].

山崎达也 ;

久保田大辉 ;

铃木秀仁 .

中国专利 :CN112241036A ,2021-01-19

[7]

偏振膜的制造方法及偏振膜的制造装置 [P].

山崎达也 ;

久保田大辉 ;

铃木秀仁 .

日本专利 :CN112241036B ,2024-05-31

[8]

膜的制造系统 [P].

冈本启一 ;

大前通宏 ;

田村海 .

中国专利 :CN114571694A ,2022-06-03

[9]

固化膜制造装置及固化膜的制造方法 [P].

桥本尚树 ;

大本笃志 ;

高桥宪显 .

日本专利 :CN118513213A ,2024-08-20

[10]

膜厚测定方法、膜厚测定系统、光反射膜的制造方法及光反射膜的制造系统 [P].

本田美佳 ;

增田治加 ;

森藤亨 .

中国专利 :CN111279147A ,2020-06-12

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