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缺陷记录系统、膜制造系统以及膜的制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201811024997.9
申请日：
2018-09-03
公开(公告)号：
CN109425616A
公开(公告)日：
2019-03-05
发明(设计)人：
加集功士 田冈尚人 越野哲史
申请人：
申请人地址：
日本国东京都
IPC主分类号：
G01N2188
IPC分类号：
B41J201
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
刘建
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2019-03-05 公开 公开
2020-06-26 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/88 申请日:20180903
共 50 条
[1]
膜的制造系统和膜的制造方法 [P]. 
植野俊明 ;
太田智之 ;
品川雅 .
中国专利 :CN114535012A ,2022-05-27
[2]
膜的制造系统及膜的制造方法 [P]. 
森本有 ;
高桥宪显 ;
大本笃志 ;
桥本尚树 .
日本专利 :CN119317494A ,2025-01-14
[3]
膜的制造方法、膜的制造装置和膜的制造系统 [P]. 
关山宏汰 ;
斋藤浩一 ;
南条崇 .
日本专利 :CN119065037A ,2024-12-03
[4]
膜的制造系统 [P]. 
冈本启一 ;
大前通宏 ;
田村海 .
中国专利 :CN114571694A ,2022-06-03
[5]
膜的制备方法、膜及其制造系统 [P]. 
孙庆津 ;
何金波 ;
王振奇 .
中国专利 :CN121200476A ,2025-12-26
[6]
光学膜的制造方法与制造系统 [P]. 
叶晋斌 ;
李承轩 ;
简士豪 ;
陈聪德 ;
蓝宏利 ;
魏敬易 .
中国专利 :CN119433449A ,2025-02-14
[7]
挤出成型装置、膜的制造系统、及膜的制造方法 [P]. 
大前通宏 ;
山下裕司 .
中国专利 :CN114144249A ,2022-03-04
[8]
挤出成型装置、膜的制造系统、及膜的制造方法 [P]. 
大前通宏 ;
山下裕司 .
日本专利 :CN114144249B ,2025-10-24
[9]
偏光膜制造系统 [P]. 
铃木秀仁 ;
祝部学 ;
原宽高 .
中国专利 :CN205229502U ,2016-05-11
[10]
偏光膜制造系统 [P]. 
铃木秀仁 ;
祝部学 ;
原宽高 .
中国专利 :CN204142990U ,2015-02-04
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