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化合物、化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230503902
申请日
:
2022-03-02
公开(公告)号
:
JP7758029B2
公开(公告)日
:
2025-10-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07F5/02
IPC分类号
:
C07C17/263
C07C22/08
C07C41/30
C07C43/17
C09K3/18
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
化合物、化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7758028B2
,2025-10-22
[2]
化合物、化合物の製造方法、及び化合物の精製方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5740042B2
,2015-06-24
[3]
化合物、化合物の製造方法、及び化合物の精製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013137075A1
,2015-08-03
[4]
化合物、及び、化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7457314B2
,2024-03-28
[5]
化合物、化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020153121A1
,2021-11-18
[6]
化合物、該化合物の製造方法、表面処理剤および物品[ja]
[P].
日本专利
:JP6811617B2
,2021-01-13
[7]
炭素化合物の製造装置及び炭素化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7265571B2
,2023-04-26
[8]
化合物及び該化合物の製造方法[ja]
[P].
ESAKI VAIDAS
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
ESAKI VAIDAS
;
TAKAISHI YU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
TAKAISHI YU
;
HARA HISAFUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
HARA HISAFUMI
;
INOUE YOSHIAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
INOUE YOSHIAKI
.
日本专利
:JP2025043276A
,2025-03-28
[9]
含フッ素化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7761038B2
,2025-10-28
[10]
含フッ素化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7761037B2
,2025-10-28
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