半导体装置的制造方法和半导体装置

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专利类型
发明
申请号
CN202380095997.0
申请日
2023-03-30
公开(公告)号
CN120883363A
公开(公告)日
2025-10-31
发明(设计)人
白鹤拓也 矢野佑树
申请人
三菱电机株式会社
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H01L23/40
IPC分类号
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
熊风;张鑫
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体装置和半导体装置的制造方法 [P]. 
松本纪久 .
中国专利 :CN109075082B ,2018-12-21
[2]
半导体装置和制造半导体装置的方法 [P]. 
矶部敦生 ;
山崎舜平 ;
小久保千穗 ;
田中幸一郎 ;
下村明久 ;
荒尾达也 ;
宫入秀和 .
中国专利 :CN101110437B ,2008-01-23
[3]
半导体装置和半导体装置的制造方法 [P]. 
西田真 .
中国专利 :CN108630757A ,2018-10-09
[4]
半导体装置和半导体装置的制造方法 [P]. 
濑古敏春 .
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[5]
半导体装置和半导体装置的制造方法 [P]. 
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[6]
半导体装置和半导体装置的制造方法 [P]. 
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前田将克 .
中国专利 :CN103415923B ,2013-11-27
[7]
半导体装置的制造方法和半导体装置 [P]. 
长泽立树 ;
鹰巢博昭 ;
刈迂修 .
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[8]
半导体装置和制造半导体装置的方法 [P]. 
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[9]
半导体装置和制造半导体装置的方法 [P]. 
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[10]
半导体装置的制造方法和半导体装置 [P]. 
板桥龙也 ;
菊池由尚 .
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