采用活性氧清除的晶片载体

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480015114.5

申请日：

2024-02-27

公开(公告)号：

CN120814041A

公开(公告)日：

2025-10-17

发明(设计)人：

V·普拉亚斯 B·梅斯默 H·斯卡莱昂 I·席尔瓦 J·D·苏特二世

申请人：

埃万特公司

申请人地址：

美国俄亥俄州

IPC主分类号：

H01L21/673

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

郭辉;蔡文清

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-17	公开	公开

共 50 条

[1]

活性氧供给装置、使用活性氧的处理装置和使用活性氧的处理方法 [P].

古川匠 ;

山内一浩 ;

小泽雅基 ;

高岛健二 ;

后藤东照 ;

金子翔太 .

日本专利 :CN118451040A ,2024-08-06

[2]

活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法 [P].

金子翔太 ;

山内一浩 ;

古川匠 ;

小泽雅基 ;

高岛健二 ;

后藤东照 .

日本专利 :CN118488924A ,2024-08-13

[3]

活性氧供给装置、使用活性氧的处理装置和使用活性氧的处理方法 [P].

古川匠 ;

小泽雅基 ;

山内一浩 ;

高岛健二 ;

后藤东照 ;

金子翔太 .

日本专利 :CN118451041A ,2024-08-06

[4]

活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法 [P].

古川匠 ;

山内一浩 ;

小泽雅基 ;

高岛健二 ;

菊池裕一 ;

金子翔太 ;

本乡将嗣 .

日本专利 :CN115997482B ,2024-09-17

[5]

具有清除装置的晶片载体 [P].

黄师轩 ;

M·J·里德尔 ;

J·D·苏特二世 ;

J·安杰尔 ;

V·普拉亚斯 ;

B·梅斯默 ;

H·斯卡莱昂 ;

K·欧哈马 .

美国专利 :CN120787375A ,2025-10-14

[6]

提高活性氧清除酶活性的方法 [P].

铃木雅之 ;

进士和典 ;

小笠一雄 ;

槙岛聪 ;

里地达哉 .

中国专利 :CN101662936A ,2010-03-03

[7]

活性氧供给装置和用活性氧的处理方法 [P].

古川匠 ;

山内一浩 ;

小泽雅基 ;

高岛健二 ;

后藤东照 ;

金子翔太 .

日本专利 :CN117730052A ,2024-03-19

[8]

利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法 [P].

植松敦 ;

菊池裕一 ;

本乡将嗣 ;

山内一浩 ;

古川匠 ;

浅沼直哉 ;

平田淳子 ;

小熊徹 .

日本专利 :CN118510597A ,2024-08-16

[9]

利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法 [P].

本乡将嗣 ;

植松敦 ;

菊池裕一 ;

古川匠 ;

山内一浩 ;

浅沼直哉 ;

平田淳子 ;

小熊徹 .

日本专利 :CN118475401A ,2024-08-09

[10]

活性氧清除剂的制备及用途 [P].

向家宁 ;

戚祖德 ;

宁德争 ;

刘宪波 .

中国专利 :CN115475229A ,2022-12-16

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