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处理液、被处理物的处理方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202480025926.8
申请日：
2024-04-09
公开(公告)号：
CN120958561A
公开(公告)日：
2025-11-14
发明(设计)人：
水谷笃史 杉岛泰雄 高桥智威
申请人：
富士胶片株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
H01L21/304
IPC分类号：
C11D7/08 C11D7/26 C11D7/28 C11D7/32 C11D7/36 C11D7/50
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
薛海蛟
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-11-14 公开 公开
2025-12-02 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/304申请日:20240409
共 50 条
[1]
处理液、被处理物的处理方法 [P]. 
杉岛泰雄 .
日本专利 :CN120591037A ,2025-09-05
[2]
处理液、被处理物的处理方法 [P]. 
杉岛泰雄 .
日本专利 :CN114364779B ,2024-05-28
[3]
处理液、被处理物的处理方法 [P]. 
杉岛泰雄 .
日本专利 :CN121022522A ,2025-11-28
[4]
处理液、被处理物的处理方法 [P]. 
杉岛泰雄 .
中国专利 :CN114364779A ,2022-04-15
[5]
处理液、被处理物的处理方法 [P]. 
杉岛泰雄 .
中国专利 :CN114930505A ,2022-08-19
[6]
半导体处理液、被处理物的处理方法、电子装置的制造方法 [P]. 
滋野井悠太 ;
水谷笃史 .
日本专利 :CN120500737A ,2025-08-15
[7]
半导体处理液、被处理物的处理方法、电子装置的制造方法 [P]. 
滋野井悠太 ;
上村哲也 ;
水谷笃史 ;
山田新平 .
日本专利 :CN119404296A ,2025-02-07
[8]
被处理物的处理系统及被处理物的处理方法 [P]. 
古矢正明 ;
田内丰泰 .
中国专利 :CN102956531B ,2013-03-06
[9]
对被处理物进行处理的方法 [P]. 
木原嘉英 ;
久松亨 .
中国专利 :CN108885990A ,2018-11-23
[10]
针对被处理液的处理方法 [P]. 
村木务 .
日本专利 :CN115362135B ,2024-08-30
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