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半导体处理液、被处理物的处理方法、电子装置的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380048102.8
申请日：
2023-06-15
公开(公告)号：
CN119404296A
公开(公告)日：
2025-02-07
发明(设计)人：
滋野井悠太
上村哲也
水谷笃史
山田新平
申请人：
富士胶片株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
H01L21/304
IPC分类号：
C11D7/32
C11D17/08
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
薛海蛟
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-02-07 | 公开 | 公开 |
| 2025-02-25 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/304申请日:20230615 |