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半导体制造用处理液、被处理物的清洗方法、半导体的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380068861.0
申请日：
2023-09-27
公开(公告)号：
CN119948604A
公开(公告)日：
2025-05-06
发明(设计)人：
上村哲也
申请人：
富士胶片株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
H01L21/304
IPC分类号：
C11D7/22
C11D7/26
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
薛海蛟
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-05-06 | 公开 | 公开 |
| 2025-05-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/304申请日:20230927 |