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半导体制造用处理管
被引：0
专利类型：
外观设计
申请号：
CN200830143287.9
申请日：
2008-09-25
公开(公告)号：
CN301118020D
公开(公告)日：
2010-01-20
发明(设计)人：
高桥清彦
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
1599
IPC分类号：
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人：
龙 淳
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2010-01-20 | 授权 | 授权 |
| 2018-10-23 | 专利权的终止 | 专利权有效期届满 主分类号:15-99 申请日:20080925 授权公告日:20100120 |