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耐等离子体性构件、等离子体处理装置用零件和等离子体处理装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080082042.8
申请日：
2020-11-24
公开(公告)号：
CN114762090B
公开(公告)日：
2025-11-04
发明(设计)人：
山城守
久保善则
行广圭司
申请人：
京瓷株式会社
申请人地址：
日本京都府
IPC主分类号：
H01L21/3065
IPC分类号：
H05H1/46
H01L21/31
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
吴克鹏
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-11-04 | 授权 | 授权 |