等离子体处理装置用构件及等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080030844.4

申请日：

2020-04-20

公开(公告)号：

CN113728124A

公开(公告)日：

2021-11-30

发明(设计)人：

石川和洋日野高志斋藤秀一

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C04B4187 C23C1408 H01L213065 H01L2131

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴克鹏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20200420
2021-11-30	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置用构件和具备它的等离子体处理装置 [P].

石川和洋 ;

日野高志 ;

斋藤秀一 .

中国专利 :CN113260732A ,2021-08-13

[2]

等离子体处理用气体、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

末田一行 ;

笹仓昌浩 ;

山本凌音 ;

角川舞 .

中国专利 :CN115699264A ,2023-02-03

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

小林义之 .

中国专利 :CN100508116C ,2007-09-26

[4]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

有田洁 ;

岩井哲博 ;

寺山纯一 .

中国专利 :CN1516890A ,2004-07-28

[7]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

酒井伊都子 .

中国专利 :CN107591308A ,2018-01-16

[8]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN102057465A ,2011-05-11

[9]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

吉田绚 ;

河野和则 .

中国专利 :CN114496709A ,2022-05-13

[10]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

青木裕介 ;

森北信也 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 .

中国专利 :CN111477531A ,2020-07-31

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