等离子体处理装置及等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02811860.X

申请日：

2002-08-20

公开(公告)号：

CN1516890A

公开(公告)日：

2004-07-28

发明(设计)人：

有田洁岩井哲博寺山纯一

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2168

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

李晓舒;魏晓刚

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-09-29	实质审查的生效	实质审查的生效
2021-07-30	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20020820 授权公告日:20060405 终止日期:20200820
2004-07-28	公开	公开
2006-04-05	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

青木裕介 ;

森北信也 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 .

中国专利 :CN111477531A ,2020-07-31

[2]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

中国专利 :CN101908460A ,2010-12-08

[3]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

青木裕介 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 ;

森北信也 ;

藤原一延 ;

阿部淳 ;

永海幸一 .

日本专利 :CN119092390A ,2024-12-06

[4]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

中国专利 :CN114388325A ,2022-04-22

[5]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

青木裕介 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 ;

森北信也 ;

藤原一延 ;

阿部淳 ;

永海幸一 .

中国专利 :CN112103165A ,2020-12-18

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

梁洁 ;

浦远 .

中国专利 :CN104733278A ,2015-06-24

[7]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

青木裕介 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 ;

森北信也 ;

藤原一延 ;

阿部淳 ;

永海幸一 .

日本专利 :CN112103165B ,2024-09-20

[8]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

矢幡将二郎 ;

佐藤徹治 .

中国专利 :CN113345787A ,2021-09-03

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西條利晃 ;

阿部淳 ;

庄司省吾 ;

加藤纯也 .

中国专利 :CN114242552A ,2022-03-25

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

矢幡将二郎 ;

佐藤徹治 .

日本专利 :CN113345787B ,2025-07-25

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