等离子体处理装置及等离子体处理方法

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专利类型
发明
申请号
CN201710092271.8
申请日
2017-02-21
公开(公告)号
CN107591308A
公开(公告)日
2018-01-16
发明(设计)人
佐藤阳介 宇井明生 酒井伊都子
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
徐殿军
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
竹内贵广 ;
小林宪 .
中国专利 :CN114188208A ,2022-03-15
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
藤原直树 ;
大秦充敬 ;
竹内贵广 .
中国专利 :CN114121589A ,2022-03-01
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
竹内贵广 ;
小林宪 .
中国专利 :CN114188209A ,2022-03-15
[4]
等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
森口尚树 .
中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25
[5]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
佐藤阳介 ;
宇井明生 ;
林久贵 .
中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27
[6]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
有田洁 ;
岩井哲博 ;
寺山纯一 .
中国专利 :CN1516890A ,2004-07-28
[7]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
平山昌树 ;
大见忠弘 .
中国专利 :CN102057465A ,2011-05-11
[8]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
吉田绚 ;
河野和则 .
中国专利 :CN114496709A ,2022-05-13
[9]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
青木裕介 ;
森北信也 ;
户花敏胜 ;
高田郁弥 .
中国专利 :CN111477531A ,2020-07-31
[10]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩濑拓 ;
荒濑高男 ;
寺仓聪志 ;
渡边勇人 ;
森政士 .
中国专利 :CN111373511A ,2020-07-03