光学邻近修正方法和系统、设备及存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410573342.6

申请日：

2024-05-09

公开(公告)号：

CN120928642A

公开(公告)日：

2025-11-11

发明(设计)人：

刘文东项偲方超

申请人：

中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

申请人地址：

201203 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区张江路18号

IPC主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

G03F7/20

代理机构：

上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327

代理人：

严皖金;张雪琴

法律状态：

公开

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-11	公开	公开
2025-11-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20240509

共 50 条

[1]

光学邻近修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

方超 ;

刘文东 .

中国专利 :CN121050167A ,2025-12-02

[2]

光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

王科 ;

任堃 ;

高大为 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN118963055B ,2025-11-25

[3]

光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

王科 ;

任堃 ;

高大为 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN118963055A ,2024-11-15

[4]

光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

钟晨 ;

王栋 .

中国专利 :CN120215196A ,2025-06-27

[5]

光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

钟晨 ;

王栋 .

中国专利 :CN120215197A ,2025-06-27

[6]

光学邻近效应修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

苌现 ;

朱画 ;

张帆 .

中国专利 :CN120993682A ,2025-11-21

[7]

光学邻近修正方法及修正装置、掩膜版、设备和存储介质 [P].

朱斌 ;

王浩 ;

陈洁 ;

张剑 ;

曹楠 ;

严保鑫 ;

陈圆香 .

中国专利 :CN121165387A ,2025-12-19

[8]

光学邻近修正方法、装置、电子设备和存储介质 [P].

王茂林 ;

李文章 .

中国专利 :CN114488721A ,2022-05-13

[9]

光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质 [P].

杜杳隽 ;

丁丽华 .

中国专利 :CN116165837B ,2025-09-02

[10]

光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质 [P].

杜杳隽 .

中国专利 :CN115903368B ,2025-08-05

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