光学邻近修正方法、存储介质及终端

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411135478.5

申请日：

2024-08-16

公开(公告)号：

CN118963055A

公开(公告)日：

2024-11-15

发明(设计)人：

王科任堃高大为吴永玉

申请人：

浙江创芯集成电路有限公司

申请人地址：

311200 浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设三路733号

IPC主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

G03F7/20

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

吴敏

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省宣城市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-25	授权	授权
2024-11-15	公开	公开
2024-12-03	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20240816

共 50 条

[1]

光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

王科 ;

任堃 ;

高大为 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN118963055B ,2025-11-25

[2]

光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

钟晨 ;

王栋 .

中国专利 :CN120215196A ,2025-06-27

[3]

光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

钟晨 ;

王栋 .

中国专利 :CN120215197A ,2025-06-27

[4]

光学邻近修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

方超 ;

刘文东 .

中国专利 :CN121050167A ,2025-12-02

[5]

光学邻近修正方法及其修正装置、可读存储介质 [P].

徐世斌 ;

高大为 ;

吴永玉 ;

任堃 ;

鲁苗苗 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

张馨元 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN119668018A ,2025-03-21

[6]

光学邻近效应修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

苌现 ;

朱画 ;

张帆 .

中国专利 :CN120993682A ,2025-11-21

[7]

光学邻近修正方法和系统、设备及存储介质 [P].

刘文东 ;

项偲 ;

方超 .

中国专利 :CN120928642A ,2025-11-11

[8]

光学邻近修正模型校准方法、存储介质及终端 [P].

胡月 ;

王健 ;

王良 .

中国专利 :CN121091592A ,2025-12-09

[9]

刻蚀补偿偏差的获取方法、光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

袁姣 .

中国专利 :CN120831876A ,2025-10-24

[10]

刻蚀补偿偏差的获取方法、光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P].

袁姣 ;

孙卫 .

中国专利 :CN120831877A ,2025-10-24

← 1 2 3 4 5 →