光学邻近修正方法及其修正装置、可读存储介质

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411784921.1
申请日
2024-12-05
公开(公告)号
CN119668018A
公开(公告)日
2025-03-21
发明(设计)人
徐世斌 高大为 吴永玉 任堃 鲁苗苗 颜哲钜 姚淼红 张馨元 李翰轩
申请人
浙江创芯集成电路有限公司
申请人地址
311200 浙江省杭州市萧山区宁围街道平澜路2118号浙江大学杭州国际科创中心水博园区11幢4层-5层(自主申报)
IPC主分类号
G03F1/36
IPC分类号
G03F7/20
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
李慧慧
法律状态
实质审查的生效
国省代码
浙江省 杭州市
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共 50 条
[1]
光学邻近修正方法 [P]. 
从传飞 .
中国专利 :CN118884774A ,2024-11-01
[2]
光学邻近修正方法和装置、计算机可读存储介质 [P]. 
徐世斌 ;
高大为 ;
吴永玉 ;
任堃 ;
鲁苗苗 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
张馨元 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN118838111A ,2024-10-25
[3]
光学邻近修正方法 [P]. 
王铁柱 .
中国专利 :CN104749899B ,2015-07-01
[4]
光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P]. 
王科 ;
任堃 ;
高大为 ;
吴永玉 .
中国专利 :CN118963055B ,2025-11-25
[5]
光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P]. 
钟晨 ;
王栋 .
中国专利 :CN120215197A ,2025-06-27
[6]
光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P]. 
王科 ;
任堃 ;
高大为 ;
吴永玉 .
中国专利 :CN118963055A ,2024-11-15
[7]
光学邻近修正方法、存储介质及终端 [P]. 
钟晨 ;
王栋 .
中国专利 :CN120215196A ,2025-06-27
[8]
光学邻近修正方法、装置、设备及存储介质 [P]. 
方超 ;
刘文东 .
中国专利 :CN121050167A ,2025-12-02
[9]
光学邻近修正方法及修正装置、掩膜版、设备和存储介质 [P]. 
朱斌 ;
王浩 ;
陈洁 ;
张剑 ;
曹楠 ;
严保鑫 ;
陈圆香 .
中国专利 :CN121165387A ,2025-12-19
[10]
光学邻近修正方法、掩膜版及可读存储介质 [P]. 
朱斌 ;
王浩 ;
王谨恒 ;
陈洁 ;
张剑 ;
曹楠 .
中国专利 :CN117471857A ,2024-01-30