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光学邻近修正方法及其修正装置、可读存储介质
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411784921.1
申请日
:
2024-12-05
公开(公告)号
:
CN119668018A
公开(公告)日
:
2025-03-21
发明(设计)人
:
徐世斌
高大为
吴永玉
任堃
鲁苗苗
颜哲钜
姚淼红
张馨元
李翰轩
申请人
:
浙江创芯集成电路有限公司
申请人地址
:
311200 浙江省杭州市萧山区宁围街道平澜路2118号浙江大学杭州国际科创中心水博园区11幢4层-5层(自主申报)
IPC主分类号
:
G03F1/36
IPC分类号
:
G03F7/20
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
李慧慧
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
浙江省 杭州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-08
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20241205
2025-03-21
公开
公开
共 50 条
[1]
光学邻近修正方法
[P].
从传飞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
长鑫存储技术有限公司
长鑫存储技术有限公司
从传飞
.
中国专利
:CN118884774A
,2024-11-01
[2]
光学邻近修正方法和装置、计算机可读存储介质
[P].
徐世斌
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
徐世斌
;
高大为
论文数:
0
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0
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
高大为
;
吴永玉
论文数:
0
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0
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
吴永玉
;
任堃
论文数:
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
任堃
;
鲁苗苗
论文数:
0
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
鲁苗苗
;
颜哲钜
论文数:
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
颜哲钜
;
姚淼红
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0
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0
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
姚淼红
;
张馨元
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
张馨元
;
李翰轩
论文数:
0
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0
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
李翰轩
.
中国专利
:CN118838111A
,2024-10-25
[3]
光学邻近修正方法
[P].
王铁柱
论文数:
0
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0
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0
王铁柱
.
中国专利
:CN104749899B
,2015-07-01
[4]
光学邻近修正方法、存储介质及终端
[P].
王科
论文数:
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
王科
;
任堃
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
任堃
;
高大为
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
高大为
;
吴永玉
论文数:
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0
机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
吴永玉
.
中国专利
:CN118963055B
,2025-11-25
[5]
光学邻近修正方法、存储介质及终端
[P].
钟晨
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0
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0
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0
机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
钟晨
;
王栋
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0
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0
机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
王栋
.
中国专利
:CN120215197A
,2025-06-27
[6]
光学邻近修正方法、存储介质及终端
[P].
王科
论文数:
0
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
王科
;
任堃
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
任堃
;
高大为
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
高大为
;
吴永玉
论文数:
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
吴永玉
.
中国专利
:CN118963055A
,2024-11-15
[7]
光学邻近修正方法、存储介质及终端
[P].
钟晨
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
钟晨
;
王栋
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
王栋
.
中国专利
:CN120215196A
,2025-06-27
[8]
光学邻近修正方法、装置、设备及存储介质
[P].
方超
论文数:
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0
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
方超
;
刘文东
论文数:
0
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0
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
刘文东
.
中国专利
:CN121050167A
,2025-12-02
[9]
光学邻近修正方法及修正装置、掩膜版、设备和存储介质
[P].
朱斌
论文数:
0
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
朱斌
;
王浩
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
王浩
;
陈洁
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
陈洁
;
张剑
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
张剑
;
曹楠
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
曹楠
;
严保鑫
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
严保鑫
;
陈圆香
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
陈圆香
.
中国专利
:CN121165387A
,2025-12-19
[10]
光学邻近修正方法、掩膜版及可读存储介质
[P].
朱斌
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
朱斌
;
王浩
论文数:
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
王浩
;
王谨恒
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
王谨恒
;
陈洁
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
陈洁
;
张剑
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0
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
张剑
;
曹楠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
曹楠
.
中国专利
:CN117471857A
,2024-01-30
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