光学邻近修正方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310454237.6

申请日：

2023-04-24

公开(公告)号：

CN118884774A

公开(公告)日：

2024-11-01

发明(设计)人：

从传飞

申请人：

长鑫存储技术有限公司

申请人地址：

230601 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号

IPC主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

G03F1/44 G03F1/42 G03F7/20 G03F9/00

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-01	公开	公开
2024-11-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20230424

共 50 条

[1]

光学邻近修正方法 [P].

王辉 .

中国专利 :CN104570585B ,2015-04-29

[2]

光学邻近修正方法 [P].

张戈 ;

刘文东 .

中国专利 :CN117930579A ,2024-04-26

[3]

光学邻近修正方法 [P].

王铁柱 .

中国专利 :CN104749899B ,2015-07-01

[4]

光学邻近修正模型的建模方法、光学邻近修正方法 [P].

王雷 .

中国专利 :CN120335258A ,2025-07-18

[5]

光学邻近效应修正方法 [P].

许征 ;

孟鸿林 ;

储志浩 .

中国专利 :CN120469147A ,2025-08-12

[6]

光学邻近效应修正方法及其修正系统 [P].

乔彦辉 ;

王丹 ;

于世瑞 .

中国专利 :CN110456617A ,2019-11-15

[7]

光学邻近修正方法及其修正装置、可读存储介质 [P].

徐世斌 ;

高大为 ;

吴永玉 ;

任堃 ;

鲁苗苗 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

张馨元 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN119668018A ,2025-03-21

[8]

光学邻近修正的蚀刻模型训练方法及光学邻近修正方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN115457350A ,2022-12-09

[9]

光学邻近修正方法、连接孔的制作方法 [P].

张婉娟 ;

林益世 .

中国专利 :CN103186033A ,2013-07-03

[10]

光学邻近修正中的关键尺寸偏差修正方法 [P].

姜长城 ;

王兴荣 ;

张海洋 .

中国专利 :CN117826522A ,2024-04-05

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