光学邻近修正方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310745648.7

申请日：

2013-12-30

公开(公告)号：

CN104749899B

公开(公告)日：

2015-07-01

发明(设计)人：

王铁柱

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F136

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101618647767 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013107456487 申请日:20131230
2015-07-01	公开	公开
2017-02-01	授权	授权

共 50 条

[1]

光学邻近修正方法 [P].

从传飞 .

中国专利 :CN118884774A ,2024-11-01

[2]

光学邻近修正中的关键尺寸偏差修正方法 [P].

姜长城 ;

王兴荣 ;

张海洋 .

中国专利 :CN117826522A ,2024-04-05

[3]

光学邻近修正方法及其修正装置、可读存储介质 [P].

徐世斌 ;

高大为 ;

吴永玉 ;

任堃 ;

鲁苗苗 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

张馨元 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN119668018A ,2025-03-21

[4]

光学邻近修正的方法 [P].

杨青 ;

刘娟 .

中国专利 :CN102759862A ,2012-10-31

[5]

光学邻近修正方法、连接孔的制作方法 [P].

张婉娟 ;

林益世 .

中国专利 :CN103186033A ,2013-07-03

[6]

光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法 [P].

陈术 .

中国专利 :CN113495424A ,2021-10-12

[7]

光学邻近修正方法及其系统、光罩的制作方法 [P].

刘蕊华 .

中国专利 :CN118605076A ,2024-09-06

[8]

光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法 [P].

陈术 .

中国专利 :CN113495424B ,2024-04-19

[9]

光学临近效应修正方法 [P].

王谨恒 ;

黄旭鑫 ;

张雷 .

中国专利 :CN102063010A ,2011-05-18

[10]

光学邻近校正模型的校正方法 [P].

王辉 ;

时雪龙 .

中国专利 :CN103631085A ,2014-03-12

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