光学邻近修正的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110109857.3

申请日：

2011-04-28

公开(公告)号：

CN102759862A

公开(公告)日：

2012-10-31

发明(设计)人：

杨青刘娟

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-10-31	公开	公开
2014-07-30	授权	授权
2012-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101370319114 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011101098573 申请日:20110428

共 50 条

[1]

光学邻近修正方法 [P].

从传飞 .

中国专利 :CN118884774A ,2024-11-01

[2]

光学邻近修正方法 [P].

王辉 .

中国专利 :CN104570585B ,2015-04-29

[3]

光学邻近修正方法 [P].

王铁柱 .

中国专利 :CN104749899B ,2015-07-01

[4]

光学邻近修正中的关键尺寸偏差修正方法 [P].

姜长城 ;

王兴荣 ;

张海洋 .

中国专利 :CN117826522A ,2024-04-05

[5]

改进光学邻近修正模型的方法和制造半导体装置的方法 [P].

郑文奎 .

中国专利 :CN109216348A ,2019-01-15

[6]

光学邻近修正方法及其修正装置、可读存储介质 [P].

徐世斌 ;

高大为 ;

吴永玉 ;

任堃 ;

鲁苗苗 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

张馨元 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN119668018A ,2025-03-21

[7]

光学邻近修正方法、连接孔的制作方法 [P].

张婉娟 ;

林益世 .

中国专利 :CN103186033A ,2013-07-03

[8]

光学邻近校正的方法 [P].

刘庆炜 .

中国专利 :CN101359178A ,2009-02-04

[9]

光学邻近修正模型校准方法、存储介质及终端 [P].

胡月 ;

王健 ;

王良 .

中国专利 :CN121091592A ,2025-12-09

[10]

显影后量测方法、光学邻近修正模型优化方法 [P].

牟芝平 ;

任堃 ;

高大为 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN118276415A ,2024-07-02

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