光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911386643.3

申请日：

2020-04-08

公开(公告)号：

CN113495424A

公开(公告)日：

2021-10-12

发明(设计)人：

陈术

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F136

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

徐文欣

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20200408
2021-10-12	公开	公开

共 50 条

[1]

光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法 [P].

陈术 .

中国专利 :CN113495424B ,2024-04-19

[2]

光学邻近修正方法、掩膜版的制作方法及半导体结构的形成方法 [P].

袁姣 ;

王伟斌 ;

王栋 ;

王兴荣 .

中国专利 :CN113075855A ,2021-07-06

[3]

光学邻近修正方法、掩膜版的制作方法及半导体结构的形成方法 [P].

袁姣 ;

王伟斌 ;

王栋 ;

王兴荣 .

中国专利 :CN113075855B ,2024-04-19

[4]

光学邻近修正方法、掩膜版制作及半导体结构的形成方法 [P].

王占雨 ;

贺婷 ;

覃柳莎 ;

王杰 ;

张迎春 .

中国专利 :CN114200767A ,2022-03-18

[5]

光学邻近修正方法、掩膜版制作及半导体结构的形成方法 [P].

王占雨 ;

贺婷 ;

覃柳莎 ;

王杰 ;

张迎春 .

中国专利 :CN114200767B ,2025-04-18

[6]

掩膜版版图的修正方法及掩膜版版图 [P].

郑二虎 ;

张冬平 ;

洪中山 .

中国专利 :CN113517180A ,2021-10-19

[7]

光学邻近修正方法、连接孔的制作方法 [P].

张婉娟 ;

林益世 .

中国专利 :CN103186033A ,2013-07-03

[8]

光学邻近修正方法 [P].

从传飞 .

中国专利 :CN118884774A ,2024-11-01

[9]

光学邻近修正方法 [P].

王铁柱 .

中国专利 :CN104749899B ,2015-07-01

[10]

光学邻近修正方法及其系统、光罩的制作方法 [P].

刘蕊华 .

中国专利 :CN118605076A ,2024-09-06

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