宽光响应范围高光激发效率PDLC调光膜及其制备方法和应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510735293.6
申请日
2025-06-04
公开(公告)号
CN120742584B
公开(公告)日
2025-12-02
发明(设计)人
孙楠 杨槐
申请人
北京大学
申请人地址
100871 北京市海淀区颐和园路5号
IPC主分类号
G02F1/1334
IPC分类号
C08F220/18 C08F222/14
代理机构
西安杜诺匠心专利代理事务所(普通合伙) 61272
代理人
曾倩倩
法律状态
公开
国省代码
北京市 市辖区
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共 50 条
[41]
一种光响应排龈材料及制备方法和应用 [P]. 
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[43]
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[44]
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[46]
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[47]
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[49]
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[50]
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