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金属掩膜版的静电释放装置及方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202511610346.8
申请日：
2025-08-14
公开(公告)号：
CN121099508A
公开(公告)日：
2025-12-09
发明(设计)人：
韩真真 徐华伟 蔡俊飞 康紫彤 姜慧慧
申请人：
浙江众凌科技有限公司
申请人地址：
314400 浙江省嘉兴市海宁市海昌街道海宁经济开发区漕河泾路17号5幢101室
IPC主分类号：
H05F3/02
IPC分类号：
G01D21/02
代理机构：
北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463
代理人：
方晓燕
法律状态：
公开
国省代码：
浙江省 嘉兴市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-12-09 公开 公开
2025-12-26 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):H05F 3/02申请日:20250814
共 50 条
[1]
金属掩膜版的静电释放装置及方法 [P]. 
韩真真 ;
徐华伟 ;
蔡俊飞 ;
康紫彤 ;
姜慧慧 .
中国专利 :CN121099507A ,2025-12-09
[2]
金属掩膜版的静电释放装置及方法 [P]. 
韩真真 ;
徐华伟 ;
蔡俊飞 ;
康紫彤 ;
姜慧慧 .
中国专利 :CN120730596A ,2025-09-30
[3]
金属掩膜版的静电释放装置及方法 [P]. 
韩真真 ;
徐华伟 ;
蔡俊飞 ;
康紫彤 ;
姜慧慧 .
中国专利 :CN120730596B ,2025-12-23
[4]
金属掩膜版的应力释放方法及系统 [P]. 
韩真真 ;
蔡俊飞 ;
龚月良 ;
康紫彤 ;
姜慧慧 .
中国专利 :CN120715304A ,2025-09-30
[5]
金属掩膜版的应力释放方法及系统 [P]. 
韩真真 ;
蔡俊飞 ;
龚月良 ;
康紫彤 ;
姜慧慧 .
中国专利 :CN120715304B ,2025-12-23
[6]
金属掩膜版以及金属掩膜版的加工方法 [P]. 
刘月 ;
白珊珊 .
中国专利 :CN113846287A ,2021-12-28
[7]
一种金属掩膜版的蚀刻方法及金属掩膜版 [P]. 
徐华伟 ;
沈洵 .
中国专利 :CN116180080B ,2025-04-11
[8]
掩膜版的制备方法及掩膜版 [P]. 
吕磊 ;
隋运武 ;
任清江 ;
林昌廷 ;
汤颖颖 .
中国专利 :CN119491186A ,2025-02-21
[9]
一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置 [P]. 
王广成 ;
甘帅燕 .
中国专利 :CN118048607A ,2024-05-17
[10]
一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置 [P]. 
王广成 ;
甘帅燕 .
中国专利 :CN118048607B ,2025-10-17
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