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晶圆减薄设备和减薄方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202511550969.0
申请日
:
2025-10-28
公开(公告)号
:
CN121018327A
公开(公告)日
:
2025-11-28
发明(设计)人
:
张力飞
路新春
邢一
赵德文
申请人
:
清华大学
申请人地址
:
100084 北京市海淀区清华园
IPC主分类号
:
B24B7/22
IPC分类号
:
B24B49/00
B24B41/06
B24B1/00
B24B47/20
H01L21/304
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
黎欢;韩嫚嫚
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
北京市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-16
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):B24B 7/22申请日:20251028
2025-11-28
公开
公开
共 50 条
[1]
晶圆减薄设备和减薄方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
张力飞
;
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机构:
路新春
;
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机构:
赵莹
;
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机构:
赵德文
.
中国专利
:CN121018329A
,2025-11-28
[2]
晶圆减薄方法
[P].
董子晗
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董子晗
;
林源为
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林源为
;
袁仁志
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袁仁志
.
中国专利
:CN110211870A
,2019-09-06
[3]
一种晶圆减薄设备和晶圆减薄方法
[P].
王丹
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
王丹
;
母凤文
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
母凤文
;
谭向虎
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
谭向虎
;
刘福超
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
刘福超
;
郭超
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
郭超
.
中国专利
:CN118744400A
,2024-10-08
[4]
一种晶圆减薄装置及晶圆减薄方法
[P].
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机构:
王慧慧
;
栾兆宇
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机构:
北京工业大学
北京工业大学
栾兆宇
;
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机构:
关宝璐
;
孙乾辉
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机构:
北京工业大学
北京工业大学
孙乾辉
;
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机构:
刘鹏
;
杜浩然
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机构:
北京工业大学
北京工业大学
杜浩然
.
中国专利
:CN119890081A
,2025-04-25
[5]
晶圆背面减薄方法及晶圆背面减薄装置
[P].
苏亚青
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苏亚青
;
张守龙
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张守龙
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季芝慧
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季芝慧
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谭秀文
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谭秀文
;
叶斐
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叶斐
;
陈裕
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陈裕
.
中国专利
:CN112349579A
,2021-02-09
[6]
晶背减薄的方法
[P].
余兴
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余兴
.
中国专利
:CN110429023A
,2019-11-08
[7]
晶背减薄的方法
[P].
余兴
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0
余兴
.
中国专利
:CN110429022B
,2019-11-08
[8]
碳化硅晶圆的减薄方法
[P].
卓廷厚
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卓廷厚
;
罗求发
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罗求发
;
柴雅玲
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柴雅玲
.
中国专利
:CN109664172A
,2019-04-23
[9]
一种柔性透明微晶玻璃用减薄液及减薄方法
[P].
彭寿
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彭寿
;
夏宁
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夏宁
;
杨金发
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杨金发
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张少波
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张少波
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王伟
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王伟
;
官敏
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官敏
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彭程
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彭程
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孙娜丽
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孙娜丽
;
李树立
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李树立
;
成惠峰
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成惠峰
;
罗丹
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罗丹
.
中国专利
:CN115636593A
,2023-01-24
[10]
一种晶圆背面减薄工艺
[P].
张宇
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张宇
.
中国专利
:CN105097487A
,2015-11-25
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