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蒸着方法及びデバイスの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20250136014
申请日
:
2025-08-18
公开(公告)号
:
JP2025178248A
公开(公告)日
:
2025-12-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/04
IPC分类号
:
C23C14/24
H10K71/16
H10K71/40
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
マスク、蒸着方法及びデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025177923A
,2025-12-05
[2]
マスク、蒸着方法及びデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7730479B1
,2025-08-28
[3]
光デバイス及び光デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018037450A1
,2019-04-18
[4]
デバイス基板及び半導体デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018519655A
,2018-07-19
[5]
電極の製造方法及び蓄電デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017026253A1
,2018-05-31
[6]
デバイスの製造方法及び組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017033970A1
,2018-06-14
[7]
眼科用デバイス及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024534179A
,2024-09-18
[8]
眼科用デバイス及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024533082A
,2024-09-12
[9]
積層膜の製造方法及び電子デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019059056A1
,2020-10-15
[10]
多接合デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022505477A
,2022-01-14
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