蒸着方法及びデバイスの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20250136014
申请日
2025-08-18
公开(公告)号
JP2025178248A
公开(公告)日
2025-12-05
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/04
IPC分类号
C23C14/24 H10K71/16 H10K71/40
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
マスク、蒸着方法及びデバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025177923A ,2025-12-05
[2]
マスク、蒸着方法及びデバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7730479B1 ,2025-08-28
[3]
光デバイス及び光デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018037450A1 ,2019-04-18
[4]
デバイス基板及び半導体デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018519655A ,2018-07-19
[5]
電極の製造方法及び蓄電デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017026253A1 ,2018-05-31
[6]
デバイスの製造方法及び組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017033970A1 ,2018-06-14
[7]
眼科用デバイス及び製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024534179A ,2024-09-18
[8]
眼科用デバイス及び製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024533082A ,2024-09-12
[9]
積層膜の製造方法及び電子デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019059056A1 ,2020-10-15
[10]
多接合デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022505477A ,2022-01-14