用于处理基板的装置和用于处理基板的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202210571132.4

申请日：

2022-05-24

公开(公告)号：

CN115394624B

公开(公告)日：

2025-12-23

发明(设计)人：

金东勋朴玩哉朴志焄金杜里

申请人：

细美事有限公司

申请人地址：

韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J65/00

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人：

张凯

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-23	授权	授权

共 50 条

[1]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

朴志焄 ;

金杜里 .

中国专利 :CN115394624A ,2022-11-25

[2]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金志勋 ;

金炯俊 .

韩国专利 :CN116072500B ,2025-12-23

[3]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

洪镇熙 ;

崔圣慜 ;

金润相 ;

全珉星 ;

全瑛恩 ;

张东荣 .

韩国专利 :CN115513031B ,2025-08-12

[4]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

洪镇熙 ;

崔圣慜 ;

金润相 ;

全珉星 ;

全瑛恩 ;

张东荣 .

中国专利 :CN115513031A ,2022-12-23

[5]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

丘峻宅 ;

卢明燮 ;

吴东燮 .

韩国专利 :CN116072501B ,2025-12-23

[6]

用于处理基板的装置和方法 [P].

崔镇雨 ;

吴承俊 ;

南镇祐 ;

李章熙 ;

朴永鹤 ;

徐安娜 .

韩国专利 :CN114695059B ,2025-10-14

[7]

用于处理基板的装置和方法 [P].

崔镇雨 ;

吴承俊 ;

南镇祐 ;

李章熙 ;

朴永鹤 ;

徐安娜 .

中国专利 :CN114695059A ,2022-07-01

[8]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金永国 ;

S·阿拉克颜 ;

闵堤泓 ;

赵台勋 ;

具滋明 .

中国专利 :CN114446755A ,2022-05-06

[9]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金永国 ;

S·阿拉克颜 ;

闵堤泓 ;

赵台勋 ;

具滋明 .

韩国专利 :CN114446755B ,2025-12-19

[10]

用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

李城吉 ;

李知桓 ;

严永堤 ;

吴东燮 ;

卢明燮 .

中国专利 :CN113410162A ,2021-09-17

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