用于处理基板的装置和用于处理基板的方法

被引：0

申请号：

CN202111294651.2

申请日：

2021-11-03

公开(公告)号：

CN114446755A

公开(公告)日：

2022-05-06

发明(设计)人：

金永国 S·阿拉克颜闵堤泓赵台勋具滋明

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京市中伦律师事务所 11410

代理人：

杨黎峰;石宝忠

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-06	公开	公开
2022-05-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20211103

共 50 条

[1]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金永国 ;

S·阿拉克颜 ;

闵堤泓 ;

赵台勋 ;

具滋明 .

韩国专利 :CN114446755B ,2025-12-19

[2]

用于处理基板的方法和用于处理基板的装置 [P].

李知桓 ;

李城吉 ;

吴东燮 ;

卢明燮 ;

金东勋 ;

朴玩哉 .

中国专利 :CN112908889A ,2021-06-04

[3]

用于处理基板的方法和用于处理基板的装置 [P].

李知桓 ;

李城吉 ;

吴东燮 ;

卢明燮 ;

金东勋 ;

朴玩哉 .

韩国专利 :CN112908889B ,2025-02-14

[4]

用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

李城吉 ;

李知桓 ;

严永堤 ;

吴东燮 ;

卢明燮 .

中国专利 :CN113410162A ,2021-09-17

[5]

用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

李城吉 ;

李知桓 ;

严永堤 ;

吴东燮 ;

卢明燮 .

韩国专利 :CN113410162B ,2024-11-15

[6]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

朴志焄 ;

金杜里 .

中国专利 :CN115394624A ,2022-11-25

[7]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

洪镇熙 ;

崔圣慜 ;

金润相 ;

全珉星 ;

全瑛恩 ;

张东荣 .

韩国专利 :CN115513031B ,2025-08-12

[8]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金志勋 ;

金炯俊 .

韩国专利 :CN116072500B ,2025-12-23

[9]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

朴志焄 ;

金杜里 .

韩国专利 :CN115394624B ,2025-12-23

[10]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

洪镇熙 ;

崔圣慜 ;

金润相 ;

全珉星 ;

全瑛恩 ;

张东荣 .

中国专利 :CN115513031A ,2022-12-23

← 1 2 3 4 5 →