用于处理基板的设备和用于处理基板的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110279903.8

申请日：

2021-03-16

公开(公告)号：

CN113410162B

公开(公告)日：

2024-11-15

发明(设计)人：

金东勋朴玩哉李城吉李知桓严永堤吴东燮卢明燮

申请人：

细美事有限公司

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/311 H01J37/305 H01J37/32 H01J37/02

代理机构：

北京市中伦律师事务所 11410

代理人：

杨黎峰;赵嫦

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-15	授权	授权

共 50 条

[1]

用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

李城吉 ;

李知桓 ;

严永堤 ;

吴东燮 ;

卢明燮 .

中国专利 :CN113410162A ,2021-09-17

[2]

用于处理基板的方法和用于处理基板的装置 [P].

李知桓 ;

李城吉 ;

吴东燮 ;

卢明燮 ;

金东勋 ;

朴玩哉 .

中国专利 :CN112908889A ,2021-06-04

[3]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金永国 ;

S·阿拉克颜 ;

闵堤泓 ;

赵台勋 ;

具滋明 .

中国专利 :CN114446755A ,2022-05-06

[4]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金永国 ;

S·阿拉克颜 ;

闵堤泓 ;

赵台勋 ;

具滋明 .

韩国专利 :CN114446755B ,2025-12-19

[5]

用于处理基板的方法和用于处理基板的装置 [P].

李知桓 ;

李城吉 ;

吴东燮 ;

卢明燮 ;

金东勋 ;

朴玩哉 .

韩国专利 :CN112908889B ,2025-02-14

[6]

用于处理基板的设备和方法 [P].

梁日光 .

中国专利 :CN101952939A ,2011-01-19

[7]

用于处理基板的设备和方法 [P].

崔镇雨 ;

李章熙 ;

朴永鹤 ;

吴承俊 ;

徐安娜 .

中国专利 :CN115547802A ,2022-12-30

[8]

用于处理基板的设备和方法 [P].

梁日光 .

中国专利 :CN101952938A ,2011-01-19

[9]

基板处理设备、基板支撑单元和基板处理方法 [P].

李相起 ;

河刚来 .

中国专利 :CN111223737B ,2020-06-02

[10]

用于处理基板的系统和方法 [P].

金瑅镐 .

中国专利 :CN105047527B ,2015-11-11

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