用于处理基板的系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510218764.2

申请日：

2015-04-30

公开(公告)号：

CN105047527B

公开(公告)日：

2015-11-11

发明(设计)人：

金瑅镐

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人：

申健

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-11-11	公开	公开
2018-08-03	授权	授权
2015-12-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101636449135 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2015102187642 申请日:20150430

共 50 条

[1]

用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

李城吉 ;

李知桓 ;

严永堤 ;

吴东燮 ;

卢明燮 .

中国专利 :CN113410162A ,2021-09-17

[2]

用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

李城吉 ;

李知桓 ;

严永堤 ;

吴东燮 ;

卢明燮 .

韩国专利 :CN113410162B ,2024-11-15

[3]

处理基板的系统和方法 [P].

文炯哲 ;

金炯俊 .

中国专利 :CN105470125B ,2016-04-06

[4]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

清野拓哉 ;

滨田康弘 ;

光成正 ;

金子都 .

日本专利 :CN120072639A ,2025-05-30

[5]

用于处理基板的装置和方法 [P].

李东夏 .

中国专利 :CN112185794A ,2021-01-05

[6]

基板处理设备、基板支撑单元和基板处理方法 [P].

李相起 ;

河刚来 .

中国专利 :CN111223737B ,2020-06-02

[7]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金东勋 ;

朴玩哉 ;

朴志焄 ;

金杜里 .

中国专利 :CN115394624A ,2022-11-25

[8]

用于处理基板的方法和用于处理基板的装置 [P].

李知桓 ;

李城吉 ;

吴东燮 ;

卢明燮 ;

金东勋 ;

朴玩哉 .

中国专利 :CN112908889A ,2021-06-04

[9]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金永国 ;

S·阿拉克颜 ;

闵堤泓 ;

赵台勋 ;

具滋明 .

中国专利 :CN114446755A ,2022-05-06

[10]

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法 [P].

金永国 ;

S·阿拉克颜 ;

闵堤泓 ;

赵台勋 ;

具滋明 .

韩国专利 :CN114446755B ,2025-12-19

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