一种适用于降低硅粉氧硅原子比的反应装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202423248301.4

申请日：

2024-12-27

公开(公告)号：

CN223732751U

公开(公告)日：

2025-12-30

发明(设计)人：

吴辉张东亮杨成柱

申请人：

恒言（无锡）新材料有限公司

申请人地址：

214174 江苏省无锡市惠山区堰丰路168号

IPC主分类号：

B01J19/18

IPC分类号：

C01B33/037 B82Y40/00 B01J19/14 B01J19/00 B01J4/02 B01D19/02

代理机构：

无锡宝光知识产权代理事务所(普通合伙) 32903

代理人：

坛博光

法律状态：

授权

国省代码：

河南省郑州市

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-30	授权	授权

共 50 条

[1]

一种超纯超细硅粉氧硅原子比降低的制备方法 [P].

吴辉 ;

张东亮 .

中国专利 :CN119858924A ,2025-04-22

[2]

适用于温和反应的反应装置 [P].

牛冀峰 ;

何文超 .

中国专利 :CN106390905A ,2017-02-15

[3]

一种适用于催化反应的反应装置 [P].

钱飞 ;

雷伟琴 ;

钱福强 .

中国专利 :CN208599696U ,2019-03-15

[4]

一种适用于催化反应的反应装置 [P].

钱飞 ;

雷伟琴 ;

钱福强 .

中国专利 :CN108579624A ,2018-09-28

[5]

一种适用于厌氧氨氧化反应装置 [P].

孙丽萍 ;

黎慧娟 ;

万春 .

中国专利 :CN209721704U ,2019-12-03

[6]

一种硅粉表面除氧的方法 [P].

张来启 ;

潘昆明 ;

王珏 ;

林均品 ;

梁永锋 .

中国专利 :CN103058198B ,2013-04-24

[7]

一种适用于羟醛反应的反应装置 [P].

顾宏伟 ;

李敏 ;

路建美 ;

曹雪琴 .

中国专利 :CN102101035B ,2011-06-22

[8]

一种硅反应装置 [P].

项习飞 ;

田才忠 ;

李士昌 ;

王美玲 .

中国专利 :CN114664706A ,2022-06-24

[9]

一种硅反应装置 [P].

王美玲 ;

田才忠 ;

贾海立 .

中国专利 :CN114597145A ,2022-06-07

[10]

一种硅反应装置 [P].

项习飞 ;

田才忠 ;

王美玲 ;

贾海立 .

中国专利 :CN217903077U ,2022-11-25

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