炭素含有量の低い直接還元鉄を製造するための方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20250534650

申请日：

2023-12-15

公开(公告)号：

JP2025539600A

公开(公告)日：

2025-12-05

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IPC主分类号：

C21B13/02

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共 50 条

[1]

直接還元鉄を製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024520557A ,2024-05-24

[2]

還元鉄の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009123115A1 ,2011-07-28

[3]

高い炭素含有量を有するケイ素含有膜の製造方法[ja] [P].

LEI XINJIAN ;

HAIRPIN CHANDRA ;

KIM MOO-SUNG .

日本专利 :JP2022008973A ,2022-01-14

[4]

流動床中で直接還元するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022520496A ,2022-03-30

[5]

ニトロソアミン含有量の低いタバコを製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP6210113B2 ,2017-10-11

[6]

ニトロソアミン含有量の低いタバコを製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015527066A ,2015-09-17

[7]

金属銅中の酸素含有量を低減するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP7667815B2 ,2025-04-23

[8]

金属銅中の酸素含有量を低減するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020519759A ,2020-07-02

[9]

低酸素含有量を有する銅電着物を製造するための添加剤[ja] [P].

日本专利 :JP2015521237A ,2015-07-27

[10]

低酸素含有量を有する銅電着物を製造するための添加剤[ja] [P].

日本专利 :JP6030229B2 ,2016-11-24

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