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一种硅片下料处理装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202423046124.1
申请日
:
2024-12-10
公开(公告)号
:
CN223722105U
公开(公告)日
:
2025-12-26
发明(设计)人
:
段陆建
顾维国
薄宏林
傅晋清
申请人
:
曼弗莱德智能制造(江苏)有限公司
申请人地址
:
215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路111号B2厂房
IPC主分类号
:
B65G47/91
IPC分类号
:
B65B69/00
代理机构
:
苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246
代理人
:
季栋林
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 苏州市
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法律状态
法律状态信息
2025-12-26
授权
授权
共 50 条
[1]
一种硅片上下料装置
[P].
郑良才
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郑良才
.
中国专利
:CN205050814U
,2016-02-24
[2]
一种刻蚀下料带液异常硅片拦截处理装置
[P].
石雪荣
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石雪荣
;
陈庆发
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陈庆发
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彭平
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彭平
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夏中高
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夏中高
;
李旭杰
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李旭杰
.
中国专利
:CN213124473U
,2021-05-04
[3]
一种硅片下料装置
[P].
宋春明
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宋春明
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张晋英
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张晋英
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王洪亮
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王洪亮
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严政先
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严政先
;
安爱博
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安爱博
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孙晨光
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孙晨光
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王彦君
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王彦君
.
中国专利
:CN216071989U
,2022-03-18
[4]
一种用于硅片检测的硅片处理装置
[P].
凌晓国
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凌晓国
;
岳旭
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岳旭
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余传江
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余传江
.
中国专利
:CN206340520U
,2017-07-18
[5]
一种硅片上下料装置
[P].
袁卫华
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袁卫华
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胡凡
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胡凡
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易文杰
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易文杰
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钟新华
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钟新华
.
中国专利
:CN203682602U
,2014-07-02
[6]
一种返工硅片处理装置
[P].
易书令
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易书令
.
中国专利
:CN209087892U
,2019-07-09
[7]
一种硅片加工处理装置
[P].
刘园
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刘园
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袁祥龙
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袁祥龙
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赵洋
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赵洋
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武卫
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武卫
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刘建伟
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刘建伟
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祝斌
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祝斌
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刘姣龙
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刘姣龙
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裴坤羽
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裴坤羽
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孙晨光
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孙晨光
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王彦君
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王彦君
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张宏杰
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张宏杰
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由佰玲
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由佰玲
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常雪岩
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常雪岩
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杨春雪
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杨春雪
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谢艳
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谢艳
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刘秒
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吕莹
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徐荣清
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徐荣清
.
中国专利
:CN218498031U
,2023-02-17
[8]
一种硅片单面处理装置
[P].
李世磊
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李世磊
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阳军
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阳军
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吴会旭
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吴会旭
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李钊
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李钊
.
中国专利
:CN207788486U
,2018-08-31
[9]
一种硅片的处理装置
[P].
尹海鹏
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尹海鹏
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黄卓
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黄卓
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周艳方
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周艳方
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中国专利
:CN208889609U
,2019-05-21
[10]
一种硅片表面处理装置
[P].
耿伟
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耿伟
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顾少俊
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顾少俊
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张西东
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周航
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周航
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中国专利
:CN218363748U
,2023-01-24
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