一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202511396221.X

申请日：

2025-09-28

公开(公告)号：

CN121209205A

公开(公告)日：

2025-12-26

发明(设计)人：

霍建辉张兵向文胜赵建龙周浩杰李双庆袁会芳

申请人：

江苏艾森半导体材料股份有限公司艾森半导体材料（南通）有限公司

申请人地址：

215341 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G09F9/33 G03F7/039 H10K71/20

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

刘逸卿

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省苏州市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-26	公开	公开

共 50 条

[1]

一种正性光刻胶组合物及其应用 [P].

王璨 ;

张宁 ;

李冰 ;

鲁代仁 ;

裴坚 ;

董栋 .

中国专利 :CN120386143A ,2025-07-29

[2]

一种正性光刻胶组合物及其应用 [P].

霍建辉 ;

张兵 ;

向文胜 ;

赵建龙 ;

陆晓健 ;

袁会芳 ;

周浩杰 ;

李双庆 ;

董仲舒 .

中国专利 :CN121187074A ,2025-12-23

[3]

正性光刻胶组合物及其制备方法、应用 [P].

周元基 .

中国专利 :CN114089602B ,2025-08-01

[4]

正性光刻胶组合物及其制备方法、应用 [P].

周元基 .

中国专利 :CN114089602A ,2022-02-25

[5]

正性光刻胶组合物及其应用 [P].

余亮 ;

高晓义 ;

于洪超 .

中国专利 :CN120233631A ,2025-07-01

[6]

一种正性光刻胶组合物及其制备方法 [P].

徐娟 ;

周建 ;

王猛 .

中国专利 :CN112650025A ,2021-04-13

[7]

一种正性光刻胶及其制备方法和应用 [P].

谢国雄 ;

王继冬 ;

邝宁春 ;

李学伟 .

中国专利 :CN120335238A ,2025-07-18

[8]

正性光刻胶组成物及其制备方法 [P].

杨洪 ;

赵晓芳 ;

郭玲香 ;

林保平 .

中国专利 :CN102402119A ,2012-04-04

[9]

一种正性光刻胶组合物 [P].

何卿 ;

胡凡华 ;

朴大然 ;

卢克军 ;

张宁 .

中国专利 :CN113946099A ,2022-01-18

[10]

一种正性光刻胶组合物 [P].

何卿 ;

胡凡华 ;

朴大然 ;

卢克军 ;

张宁 .

中国专利 :CN113946099B ,2024-07-05

← 1 2 3 4 5 →