SPATIAL CHARGE-DISTRIBUTION IN THE PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITED NITROGEN-RICH SILICON-NITRIDE

被引：15

作者：

KANICKI, J

HUG, S

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.100876

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：733 / 735

页数：3

共 8 条

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