MINORITY-CARRIER LIFETIME AND DEFECT STRUCTURE IN SILICON AFTER CESIUM IMPLANTATION

被引:11
作者
SIXT, G [1 ]
KAPPERT, H [1 ]
SCHWUTTKE, GH [1 ]
机构
[1] IBM CORP, E FISHKILL LABS, Hopewell Jct, NY 12533 USA
来源
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE | 1977年 / 43卷 / 01期
关键词
D O I
10.1002/pssa.2210430112
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页数:13
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