EFFECT OF DARK SPACE IN RF GLOW-DISCHARGE ON PLASMA ETCHING CHARACTERISTICS

被引：3

作者：

MATSUO, S

TAKEHARA, Y

OZAWA, A

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.17.2071

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2071 / 2072

页数：2

共 5 条

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