OPTICAL REQUIREMENTS FOR PROJECTION LITHOGRAPHY

被引:12
作者
OLDHAM, WG [1 ]
SUBRAMANIAN, S [1 ]
NEUREUTHER, AR [1 ]
机构
[1] UNIV CALIF BERKELEY,ELECTR RES LAB,BERKELEY,CA 94720
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(81)90120-9
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:975 / 980
页数:6
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