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APPLICATION OF WEAKLY IONIZED PLASMAS FOR MATERIALS SAMPLING AND ANALYSIS

被引：23
作者：
BLADES, MW
BANKS, P
GILL, C
HUANG, DG
LEBLANC, C
LIANG, D
机构：
[1] Department of Chemistry, University of British Columbia, Vancouver
来源：
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE | 1991年 / 19卷 / 06期
基金：
加拿大自然科学与工程研究理事会;
关键词：
D O I：
10.1109/27.125033
中图分类号：
O35 [流体力学]; O53 [等离子体物理学];
学科分类号：
070204 ; 080103 ; 080704 ;
摘要：
The use of weakly ionized plasmas as spectroscopic sources for materials sampling and analysis is reviewed. Plasma sources currently used for this purpose include dc and ac plasmas, inductively coupled plasmas, microwave-induced plasmas, surface-wave plasmas, capacitively coupled plasmas, capacitive microwave plasmas, glow discharges, flowing afterglows, Theta pinch discharges, exploding films and wires, and laser-produced plasmas.
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页码：1090 / 1113
页数：24
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