REACTIVE ION ETCHING OF GAAS IN CCL2F2

被引：47

作者：

KLINGER, RE ^{[1
]}

GREENE, JE ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,MAT RES LAB,URBANA,IL 61801

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.92455

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：620 / 622

页数：3

共 6 条

ELTOUKHY, AH ;

GREENE, JE .

GREENE, JE .

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