DOUBLE-CRYSTAL X-RAY TOPOGRAPHIC DETERMINATION OF LOCAL STRAIN IN METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR DEVICE STRUCTURES

被引:13
作者
QADRI, SB
MA, D
PECKERAR, M
机构
关键词
D O I
10.1063/1.98483
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1827 / 1829
页数:3
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