学术探索
学术期刊
新闻热点
数据分析
智能评审

ON THE ANALYSIS OF AN ECR PLASMA

被引：5
作者：
CHANG, HY
SONG, SK
KIM, YJ
机构：
[1] KAIST, Department of Physics, Taejeon-Shi
来源：
PHYSICS LETTERS A | 1990年 / 149卷 / 2-3期
基金：
美国国家科学基金会;
关键词：
D O I：
10.1016/0375-9601(90)90544-X
中图分类号：
O4 [物理学];
学科分类号：
0702 ;
摘要：
The parameters of a plasma produced by the ECR method are measured and analyzed. Interpretations based on single-particle motion are performed. © 1990.
引用
收藏
页码：159 / 161
页数：3
相关论文
共 4 条
  • [1] LOW-TEMPERATURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION METHOD UTILIZING AN ELECTRON-CYCLOTRON RESONANCE PLASMA
    MATSUO, S
    KIUCHI, M
    [J]. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1983, 22 (04): : L210 - L212
  • [2] MAGNETIC-FIELD GRADIENT EFFECTS ON ION ENERGY FOR ELECTRON-CYCLOTRON RESONANCE MICROWAVE PLASMA STREAM
    MATSUOKA, M
    ONO, KI
    [J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 1988, 6 (01): : 25 - 29
  • [3] McDaniel EW., 1964, COLLISION PHENOMENA
  • [4] MICROWAVE PLASMA ETCHING
    SUZUKI, K
    OKUDAIRA, S
    SAKUDO, N
    KANOMATA, I
    [J]. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1977, 16 (11) : 1979 - 1984
1