REFLECTION MASK TECHNOLOGY FOR X-RAY PROJECTION LITHOGRAPHY

被引：13

作者：

HAWRYLUK, AM

CEGLIO, NM

GAINES, DP

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1989年 / 7卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584486

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1702 / 1704

页数：3

共 6 条

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