INVESTIGATION OF LATERAL DAMAGE EFFECTS OF ION-IMPLANTED LAYERS BY BACKSCATTERING TECHNIQUES

被引：7

作者：

SCHMID, K ^{[1
]}

MULLER, H ^{[1
]}

RYSSEL, H ^{[1
]}

RUGE, I ^{[1
]}

机构：

[1] TECH UNIV MUNICH,LEHRSTUHL INTEGRIERTE SCHALTUNGEN,MUNICH,WEST GERMANY

来源：

THIN SOLID FILMS | 1973年 / 19卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(73)90067-9

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：313 / 318

页数：6

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共 2 条

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