MOIRE ALIGNMENT TECHNIQUE FOR THE MIX AND MATCH LITHOGRAPHIC SYSTEM

被引：5

作者：

NOMURA, T

KIMURA, S

UCHIDA, Y

HATTORI, S

机构：

[1] AICHI INST TECHNOL,DEPT ELECTR ENGN,TOYOTA 47003,JAPAN

[2] NAGOYA UNIV,FAC ENGN,DEPT ELECTR MECH ENGN,CHIKUSA KU,NAGOYA,AICHI 464,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583961

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：394 / 398

页数：5

共 5 条

[1]

AUSTIN S, 1981, J VAC SCI TECHNOL, V19, P1214

[2] MOIRE SIGNALS IN REFLECTION [J].

CHITNIS, VT ;

UCHIDA, Y ;

HANE, K ;

HATTORI, S .

[3] NEW INTERFEROMETRIC ALIGNMENT TECHNIQUE [J].

FLANDERS, DC ;

SMITH, HI ;

AUSTIN, S .

[4]

KINOSHITA H, 1983, J VAC SCI TECHNOL B, V1, P1726

[5] AN AUTOMATIC MASK ALIGNMENT TECHNIQUE USING MOIRE INTERFERENCE [J].

UCHIDA, Y ;

HATTORI, S ;

NOMURA, T .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1987, 5 (01) :244-247