THE EFFECT OF HEAT-TREATMENTS ON THE CHEMICAL-STATE OF PHOSPHORUS IN SIO2

被引：12

作者：

HOH, K ^{[1
]}

SAITOH, M ^{[1
]}

MIURA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] VLSI TECHNOL RES ASSOC,COOPERAT LABS,TAKATSU KU,KAWASAKI 213,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2127691

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1613 / 1614

页数：2

共 6 条

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